Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
af Seiji Samukawa
Bog, Paperback, Engelsk, 2014
Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.
Priser fra 4 boghandlere
- BoghandlerPrisFragtLevering
- SAXO409,95 kr.39,95 kr.UkendtKøb for 409,95 kr.Køb
- Bogreolen569,95 kr.34,95 kr.2-4 ugerKøb for 569,95 kr.Køb
- Tales570,95 kr.34,95 kr.2-4 ugerKøb for 570,95 kr.Køb
- Pling BØGER570,95 kr.34,95 kr.2-4 ugerKøb for 570,95 kr.Køb
Bogdetaljer
- SprogEngelsk
- IndbindingPaperback
- ISBN9784431547945
- Udgivet17/02/2014
- Udgivet afSpringer Verlag, Japan
- Længde40 sider
- ForfatterSeiji Samukawa
- GenreBusiness og læring, Videnskab